
Pasta Konduktif Ag
Daya lekat dan keandalan tinggi pada berbagai substrat, termasuk AlN. Kompatibel dengan suhu firing 600°C hingga 900°C.

Daya lekat dan keandalan tinggi pada berbagai substrat, termasuk AlN. Kompatibel dengan suhu firing 600°C hingga 900°C.

Membentuk lapisan konduktif dengan daya lekat dan konduktivitas tinggi pada berbagai substrat keramik.

Pasta thick film berbasis CuAgTi dengan daya lekat tinggi pada berbagai material keramik, termasuk Si₃N₄.

Membentuk lapisan pelindung tahan panas hingga 300~400°C dan membantu mencegah oksidasi elemen resistif.

Pasta resistif thick film berbasis CuNi untuk rentang resistansi 1 hingga 10 Ω dengan stabilitas yang tinggi.

Pasta resistif thick film berbasis LaB₆ untuk rentang resistansi 3 hingga 1000 Ω dengan TCR rendah.